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電化學(xué)工作站原理，電化學(xué)工作站能測什么
2021-01-04
電化學(xué)工作站在電池檢測中占有重要地位，它將恒電位儀、恒電流儀和電化學(xué)交流阻抗分析儀有機(jī)地結(jié)合，既可以做三種基本功能的常規(guī)試驗，也可以做基于這三種基本功能的程式化試驗。今天艾克塞普就和大家聊一聊電化學(xué)工作站的原理及應(yīng)用。
在試驗中，既能檢測電池電壓、電流、容量等基本參數(shù)，又能檢測體現(xiàn)電池反應(yīng)機(jī)理的交流阻抗參數(shù)，從而完成對多種狀態(tài)下電池參數(shù)的跟蹤和分析。
圖2 1為工作電極，2為參比電極，3為對電極
1、三電極體系
研究電極上電子的運(yùn)動是電化學(xué)反應(yīng)的基礎(chǔ)，為了分別對電池或電解池的陰極，陽極發(fā)生的反應(yīng)進(jìn)行觀察需用到三電極體系。
加入的電極叫做參比電極，它的作用是為了測量進(jìn)行這些反應(yīng)的電極電位的一個基準(zhǔn)電極。被測定的電極叫做工作電極，與工作電極相對的電極叫做輔助電極。
在三電極法中為了能夠在測定研究電極和參比電極之間電壓同時，又能任意調(diào)節(jié)研究電極的電位，最理想的設(shè)備為具有自動調(diào)節(jié)功能的恒電位儀。
2、恒電位儀的基本概念
恒電位儀是電化學(xué)測試中最重要的儀器，其性能的優(yōu)良直接影響電化學(xué)測試結(jié)果的準(zhǔn)確度。由它控制電極電位為指定值，以達(dá)到恒電位極化的目的。若給以指令信號，則可使電極電位自動跟蹤指令信號而變化。
電化學(xué)測試簡述
電化學(xué)測定方法是將化學(xué)物質(zhì)的變化歸結(jié)為電化學(xué)反應(yīng)，也就是以體系中的電位、電流或者電量作為體系中發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的量度進(jìn)行測定的方法。包括電流-電位曲線的測定；電極化學(xué)反應(yīng)的電位分析，電極化學(xué)反應(yīng)的電量分析；對被測對象進(jìn)行微量測定的極譜分析；交流阻抗測試等。
1、常用的電化學(xué)測試方法技術(shù)
電流分析法(也稱為計時安培法)、差分脈沖安培法(DPA)、差分脈沖伏安法(DPV)、循環(huán)伏安法(CV)、線性掃描伏安法(LSV)、常規(guī)脈沖伏安法(NPV)、方波伏安法(SWV)等。
2、電化學(xué)測試方法的優(yōu)點(diǎn)
（1）簡單易行。可將一般難以測定的化學(xué)參數(shù)直接變換成容易測定的電參數(shù)加以測定。
（2）靈敏度高。因為電化學(xué)反應(yīng)是按法拉第定律進(jìn)行的，所以，即使是微量的物質(zhì)變化也可以通過容易測定到的電流或電量來進(jìn)行測定。
（3）實(shí)時性好。利用高精度的特點(diǎn)，可以檢測出微反應(yīng)量，并對其進(jìn)行定量。
電化學(xué)工作站分類
根據(jù)通道個數(shù)的不同，將電化學(xué)工作站分為單通道和多通道兩種。單通道工作站主要是在一定時間內(nèi)只能完成一個樣品的參數(shù)測量，而多通道工作站可以同時對多個樣品進(jìn)行參數(shù)測量，提高了工作效率。
電化學(xué)工作站原理及其應(yīng)用
1、交流阻抗的原理及應(yīng)用
交流阻抗方法是用小幅度交流信號擾動電解池，并觀察體系在穩(wěn)態(tài)時對擾動的跟隨的情況，同時測量電極的交流阻抗，進(jìn)而計算電極的電化學(xué)參數(shù)。從原理上來說，阻抗測量可應(yīng)用與任何物理材料，任何體系，只要該體系具有雙電極，并在該雙電極上對交流電壓具有瞬時的交流電流相應(yīng)特性即可。
交流阻抗譜(EIS)在金屬表面鈍化方面的應(yīng)用：要確定某鈍化工藝中Fe2+濃度對鈍化效果的影響，可以在不同的Fe2+濃度下測試出交流阻抗曲線，從中篩選出最合適的工況。表明濃度1比濃度2、濃度3的成膜工藝要好，因此可以選擇濃度1作為該參數(shù)的最佳條件。
圖3 雙氧化鈍化工藝中，在不同F(xiàn)e2+濃度下的交流阻抗曲線
2、循環(huán)伏安法原理
循環(huán)伏安法是在一定電位下測量體系的電流，得到伏安特性曲線。根據(jù)伏安特性曲線進(jìn)行定性定量分析。如果施加的電位為等腰三角形的形式加在工作電極上，得到的電流電壓曲線包括兩個分支，如果前半部分電位向陰極方向掃描，產(chǎn)生還原波，那么后半部分電位向陽極方向掃描時，便產(chǎn)生氧化波，該法稱為循環(huán)伏安法。如果電活性物質(zhì)可逆性差，則氧化波與還原波的高度就不同，對稱性也較差。
從圖4中可以看出氧化還原峰很對稱，陰極峰電流與陽極峰電流近似相等，且隨著掃描速率的增加，兩峰均沒發(fā)生位移只是峰高增大。這些說明[IrC16 ] 2-與[IrCl6 ]3- 之間的氧化還原反應(yīng)屬于可逆反應(yīng)。
圖4 0.5mol/L [IrC16 ] 2-在1.0 mol/L HCl溶液中的CV曲線
電偶電流曲線上的電偶電流的大小實(shí)際上反映的是瞬間的電路板表面所鍍的金屬沉積的速度，也就是直接反映反應(yīng)的速度。
圖5 銅-錫電偶電流隨時間變化曲線
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